[发明专利]曝光装置以及平面显示器制造方法有效
| 申请号: | 202110788294.9 | 申请日: | 2016-09-29 |
| 公开(公告)号: | CN113485076B | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
| 发明(设计)人: | 白户章仁;涩谷敬 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/22;G03F7/00;G02F1/13;G01D5/347 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 董骁毅;叶明川 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 曝光 装置 以及 平面 显示器 制造 方法 | ||
1.一种曝光装置,经由光学系统对物体照射照明光,其具备:
第1移动体,配置于前述光学系统下方,保持前述物体;
第1驱动系统,在与前述光学系统的光轴正交的既定平面内于彼此正交的第1、第2方向移动前述移动体;
框架构件,支承前述光学系统;
第2移动体,在与前述光轴平行的方向,设于前述第1移动体与前述框架构件之间,可移动于前述第1方向;以及
测量系统,以在前述第2方向多个格子区域彼此分离配置的格子构件与对前述格子构件分别照射测量光束的多个读头中的一方设于前述第1移动体,并且前述格子构件与前述多个读头中的另一方与前述第1移动体对向的方式设于前述第2移动体,具有测量在前述第1方向上的前述多个读头的相对于前述框架构件的位置信息的测量装置,根据前述多个读头中前述测量光束照射于前述多个格子区域的至少一个格子区域的至少三个读头的测量信息、以及前述测量装置的测量信息,测量至少在前述既定平面内的3自由度方向上的前述第1移动体相对于前述框架构件的位置信息;
前述多个读头,分别在前述第1移动体往前述第2方向的移动中,前述测量光束从前述多个格子区域中的一个格子区域脱离,并且移至与前述一个格子区域相邻的另一格子区域。
2.如权利要求1所述的曝光装置,其中,前述测量装置,以在前述第1方向上多个格子区域群彼此分离配置的格子部与对前述格子部分别照射测量光束的多个读头部中的一方设于前述第2移动体,并且前述格子部与前述多个读头部中的另一方与前述第2移动体对向的方式设于前述框架构件。
3.如权利要求2所述的曝光装置,其中,前述多个读头部,分别在前述第2移动体往前述第1方向的移动中,前述测量光束从前述多个格子区域群中的一个格子区域群脱离,并且移至与前述一个格子区域群相邻的另一格子区域。
4.如权利要求1至3中任一项所述的曝光装置,其中,前述格子构件设于前述第1移动体,
前述多个读头设于前述第2移动体。
5.如权利要求2或3所述的曝光装置,其中,前述格子部设于前述框架构件,
前述多个读头设于前述第2移动体。
6.如权利要求1至3中任一项所述的曝光装置,其中,前述第1驱动系统,于前述物体的扫描曝光时,相对于前述光学系统使前述第1移动体往前述第2方向相对移动。
7.一种平面显示器制造方法,其包含:
使用权利要求1至6中任一项所述的曝光装置使基板曝光的动作;以及
使曝光后的前述基板显影的动作。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康,未经株式会社尼康许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110788294.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





