[发明专利]曝光装置以及平面显示器制造方法

说明书

曝光装置中，于基板保持具(34)上在X轴方向上多个格子区域(RG)彼此分离配置，对格子区域分别照射测量光束且能在Y轴方向移动的多个读头(66a～66d)配置于基板保持具外部。控制系统，根据多个读头中对向于格子区域的至少三个读头的测量信息与测量多个读头的位置信息的测量装置的测量信息，控制基板保持具在至少XY面内的3自由度方向的移动。多个读头，分别在基板保持具在X轴方向的移动中测量光束从多个格子区域中的一个格子区域脱离且移至相邻的另一格子区域。

本发明为申请日为2016年09月29日，申请号为“201680058222.6”，发明名称为“曝光装置、曝光方法以及平面显示器制造方法”的发明专利的分案申请。

技术领域

本发明是关于曝光装置以及平面显示器制造方法，更详言之，是关于用在制造液晶显示组件等微型组件的微影制程的曝光装置以及使用曝光装置的平面显示器制造方法。

背景技术

以往，在制造液晶显示组件、半导体组件(集成电路等)等的电子组件(微型组件)的微影制程中，使用步进扫描方式的曝光装置(所谓扫描步进机(亦称为扫描机))等，其一边使光罩(photomask)或标线片(以下总称为「光罩」)与玻璃板或晶圆(以下总称为「基板」)沿着既定扫描方向(SCAN方向)同步移动，一边将形成在以能量光束照明的光罩的图案转印至基板上。

作为此种曝光装置，已知有使用基板载台装置所具有的棒反射镜(长条的镜)求出曝光对象基板在水平面内的位置信息的光干涉仪系统者(参照例如专利文献1)。

此处，在使用光干涉仪系统求出基板的位置信息的情形，无法忽视所谓空气摇晃的影响。另外，上述空气摇晃的影响，虽能借助使用编码器系统来减低，但因近年基板的大型化，难以准备能涵盖基板全移动范围的标尺。

先行技术文献

[专利文献1]美国专利申请公开第2010/0018950

发明内容

用以解决课题的手段

根据本发明的第1态样，提供一种曝光装置，透过光学系统对物体照射照明光，其具备：移动体，配置于前述光学系统下方，保持前述物体；驱动系统，能在与前述光学系统的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1、第2方向移动前述移动体；测量系统，设置成在前述第1方向上多个格子区域彼此分离配置的格子构件与对前述格子构件分别照射测量光束且能在前述第2方向移动的多个读头中的一方设于前述移动体，且前述格子构件与前述多个读头中的另一方与前述移动体对向，前述测量系统具有测量在前述第2方向的前述多个读头的位置信息的测量装置，根据前述多个读头中前述测量光束照射于前述多个格子区域中的至少一个格子区域的至少三个读头的测量信息与前述测量装置的测量信息，测量至少在前述既定平面内的3自由度方向的前述移动体的位置信息；以及控制系统，根据以前述测量系统测量的位置信息，控制前述驱动系统；前述多个读头，分别在前述移动体往前述第1方向的移动中前述测量光束从前述多个格子区域中的一个格子区域脱离且移至与前述一个格子区域相邻的另一格子区域。

根据本发明的第2态样，提供一种平面显示器制造方法，其包含：使用第1态样的曝光装置使基板曝光的动作；以及使曝光后的基板显影的动作。