[发明专利]一种化学机械抛光设备的抛光液储液盘及其制备方法在审
| 申请号： | 202110780593.8 | 申请日： | 2021-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN113319735A | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 左洪波;杨鑫宏;李铁;李岩 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨秋冠光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B57/00;B05D7/14;B05D3/02;B05D3/10;B05D3/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 150001 黑龙江*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种化学机械抛光设备的抛光液储液盘及其制备方法。该抛光液储液盘为倒立的圆锥形结构，圆锥的上下口分别是进液口和出液口，盘内壁设置有一层憎水涂层，圆锥的侧边与底面的夹角是45°，憎水涂层厚度范围是1~5 mm，在储液盘的侧壁上均匀分布。本发明在相同的抛光效果的情况下，能够有效地节约抛光液，降低加工耗材成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 设备 抛光 液储液盘 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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