[发明专利]一种化学机械抛光设备的抛光液储液盘及其制备方法

权利要求书

1.一种化学机械抛光设备的抛光液储液盘，其特征在于该抛光液储液盘为倒立的圆锥形结构，圆锥的上下口分别是进液口和出液口，盘内壁设置有一层憎水涂层，圆锥的侧边与底面的夹角是45°，憎水涂层厚度范围是1~5 mm，在储液盘的侧壁上均匀分布。

2.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光设备的抛光液储液盘的制备方法，其特征在于该方法包括以下步骤：第一步是将不锈钢材料焊接制成不锈钢圆锥，去除圆锥的顶部形成抛光液储液盘工件；第二步是采用喷涂方法制备储液盘内部的憎水层，首先进行表面脱脂，依次利用丙酮、酒精和水为溶剂，将抛光液储液盘工件分别浸入并进行超声处理，每次超声15分钟；然后表面粗化处理，采用喷砂方法，砂子的目数是300目，用丙酮和清水清洗；接着喷底层，将含氟的有机聚合物涂料装入喷枪斗内，用净化的压缩空气进行喷涂；喷枪的压力4000~6000 Pa，喷枪距离抛光液储液盘工件表面0.01~0.02 mm；然后将涂装好的抛光液储液盘工件放置在干燥箱内干燥10~20 min，再送到马弗炉中加热塑化，塑化温度是360~390℃，时间为10~30 min；塑化完成的抛光液储液盘工件用冷水进行淬火处理，完成憎水层的制备，憎水涂层厚度范围是1~5 mm，在工件的侧壁上均匀分布，最终得到抛光液储液盘。

3.根据权利要求2所述的一种化学机械抛光设备的抛光液储液盘的制备方法，其特征在于所述的含氟的有机聚合物涂料为聚四氟乙烯。