[发明专利]一种化学机械抛光设备的抛光液储液盘及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110780593.8 申请日: 2021-07-10
公开(公告)号: CN113319735A 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 左洪波;杨鑫宏;李铁;李岩 申请(专利权)人: 哈尔滨秋冠光电科技有限公司
主分类号: B24B37/34 分类号: B24B37/34;B24B57/00;B05D7/14;B05D3/02;B05D3/10;B05D3/12
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摘要:
搜索关键词: 一种 化学 机械抛光 设备 抛光 液储液盘 及其 制备 方法
【说明书】:

发明提供了一种化学机械抛光设备的抛光液储液盘及其制备方法。该抛光液储液盘为倒立的圆锥形结构,圆锥的上下口分别是进液口和出液口,盘内壁设置有一层憎水涂层,圆锥的侧边与底面的夹角是45°,憎水涂层厚度范围是1~5 mm,在储液盘的侧壁上均匀分布。本发明在相同的抛光效果的情况下,能够有效地节约抛光液,降低加工耗材成本。

技术领域

本发明公开了一种化学机械抛光设备的抛光液储液盘,具体涉及一种内部带有憎水涂层的倒圆锥形的储液盘,属于硬脆材料的加工设备领域。

背景技术

化学机械抛光是将硬脆材料表面进行平坦化处理的主要技术方法,它综合了化学研磨和机械研磨的优势,可以保证材料去除效率的同时,获得比较完美的表面。化学机械抛光设备的耗材主要是抛光垫、抛光液、抛光头、化学清洗剂和保护剂,其中的抛光液在抛光垫与硬脆材料的表面间运动,对抛光效果起决定作用。随着抛光头的旋转运动,多余的抛光液会从研磨盘流下,流入一个储液盘,然后进入抛光液循环系统循环使用。

目前的化学机械抛光设备的储液盘都是圆柱形状,底部有一个很小的抛光液开口。由于抛光液的流速很大,其数量级在每分钟十数升左右,很容易造成圆柱形储液盘中,抛光液发生积存,导致一部分的抛光液循环速率减慢,没有参与到抛光过程。不但增加了耗材成本,也容易造成圆柱形盘的底部出液口的阻塞,使得整个抛光液循环系统发生故障。

发明内容

本发明的目的在于提供一种在相同的抛光效果的情况下,有效地节约抛光液,降低加工耗材成本的化学机械抛光设备的抛光液储液盘。

本发明的目的是这样实现的:该抛光液储液盘为倒立的圆锥形结构,圆锥的上下口分别是进液口和出液口,盘内壁设置有一层憎水涂层,圆锥的侧边与底面的夹角是45°,憎水涂层厚度范围是1~5 mm,在储液盘的侧壁上均匀分布。

本发明的另一目的在于提供一种制备上述抛光液储液盘的制备方法。该方法包括以下步骤:第一步是将不锈钢材料焊接制成不锈钢圆锥,去除圆锥的顶部形成抛光液储液盘工件;第二步是采用喷涂方法制备储液盘内部的憎水层,首先进行表面脱脂,依次利用丙酮、酒精和水为溶剂,将抛光液储液盘工件分别浸入并进行超声处理,每次超声15分钟;然后表面粗化处理,采用喷砂方法,砂子的目数是300目,用丙酮和清水清洗;接着喷底层,将含氟的有机聚合物涂料装入喷枪斗内,用净化的压缩空气进行喷涂;喷枪的压力4000~6000Pa,喷枪距离抛光液储液盘工件表面0.01~0.02 mm;然后将涂装好的抛光液储液盘工件放置在干燥箱内干燥10~20 min,再送到马弗炉中加热塑化,塑化温度是360~390℃,时间为10~30 min;塑化完成的抛光液储液盘工件用冷水进行淬火处理,完成憎水层的制备,憎水涂层厚度范围是1~5 mm,在工件的侧壁上均匀分布,最终得到抛光液储液盘。

本发明还有这样一些技术特征:

1、所述的含氟的有机聚合物涂料为聚四氟乙烯(PTFE)。

本发明储液盘的改进有两个方面: 第一,改进圆柱形为倒立的圆锥形;第二,在圆锥内部内,制备一个憎水涂层。倒立的圆锥形储液盘,由不锈钢材料制备。圆锥内部的憎水层,由喷涂或气相蒸镀的方法制备。憎水涂层主要是由含氟的有机聚合物形成。抛光液的液滴在重力的作用下,自动向下流淌。同时,憎水层对液滴的摩擦力液较小,可以加快抛光液在体系内的循环速度。从而降低抛光液的使用量,节约耗材成本。

本发明的有益效果:

1.储液盘的侧壁是一个倒立的圆锥形,液体会在自身重力的作用下,自动向下流,抛光液不会积存。同时,也增加抛光液的循环速度。

2.储液盘的侧壁上有一层憎水层,抛光液的液滴与侧壁非浸润,可以减小液滴的摩擦力。同时,可以保持侧壁的清洁,不会使抛光液中的固体成分在侧壁表面残留,避免固体成分阻塞抛光液盘的储液口。

储液盘的进出液口与大气相同,可以使得抛光液在出液口流下时,上下气压平衡,避免气压的阻力,加快抛光液的循环过程。

附图说明

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