[发明专利]一种曝光方法及显示面板在审
| 申请号： | 202110756340.7 | 申请日： | 2021-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN115586705A | 公开（公告）日： | 2023-01-10 |
| 发明（设计）人： | 任书铭 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/58;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 李彩玲 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光方法及显示面板，该方法包括：提供光刻机，光刻机包括载台，在载台表面提供衬底基板；在衬底基板远离载台的一侧制备光吸收层；在光吸收层远离载台的一侧制备金属层，金属层中设置有开口；在金属层远离载台的一侧制备光刻胶层并对光刻胶层进行曝光处理；经开口入射至光吸收层中的光线被光吸收层吸收。本发明实施例提供的曝光方法，通过设置光吸收层吸收经开口到达衬底基板后再经金属层多次反射叠加后到达光刻胶内的反射光，可以有效减弱反射光能量，从而达到减轻或者消除反射光对光刻胶的影响，进一步减轻或者消除载台色不均现象，提高光刻准精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
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