[发明专利]一种曝光方法及显示面板

权利要求书

1.一种曝光方法，其特征在于，包括：

提供光刻机，所述光刻机包括载台；

在所述载台表面提供衬底基板；

在所述衬底基板远离所述载台的一侧制备光吸收层；

在所述光吸收层远离所述载台的一侧制备金属层，所述金属层中设置有开口；所述光吸收层在所述衬底基板所在平面上的垂直投影至少覆盖所述开口在所述衬底基板所在平面上的垂直投影；

在所述金属层远离所述载台的一侧制备光刻胶层并对所述光刻胶层进行曝光处理；经所述开口入射至所述光吸收层中的光线被所述光吸收层吸收。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，沿第一方向，所述光吸收层的厚度为H1，5μm≤H1≤10μm；所述第一方向垂直所述衬底基板所在平面。

3.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，在所述衬底基板远离所述载台的一侧制备光吸收层之后，还包括：

在所述光吸收层远离所述载台的一侧制备刻蚀阻挡层；

在所述光吸收层远离所述载台的一侧制备金属层，包括：

在所述刻蚀阻挡层远离所述载台的一侧制备金属层。

4.根据权利要求3所述的曝光方法，其特征在于，在所述光吸收层远离所述载台的一侧制备金属层之前，还包括：

在所述衬底基板远离所述载台的一侧制备有源层；

在所述有源层远离所述载台的一侧制备绝缘层，所述绝缘层用于绝缘隔离所述有源层与所述金属层；其中，所述绝缘层与所述刻蚀阻挡层在同一工艺中采用同种材料制备得到。

5.根据权利要求3所述的曝光方法，其特征在于，沿第一方向，所述光吸收层的厚度为H2，1μm≤H2≤5μm；所述第一方向垂直所述衬底基板所在平面。

6.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，在所述衬底基板远离所述载台的一侧制备光吸收层，包括：

在所述衬底基板远离所述载台的一侧制备第一偏光层；

在所述第一偏光层远离所述载台的一侧制备第二偏光层，所述第二偏光层的偏振方向与所述第一偏光层的偏振方向垂直。

7.一种显示面板，采用权利要求1-6任一项所述的曝光方式制备得到，其特征在于，所述显示面板包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板一侧的光吸收层；

位于所述光吸收层远离所述载台一侧的金属层，所述金属层中设置有开口；所述光吸收层在所述衬底基板所在平面上的垂直投影至少覆盖所述开口在所述衬底基板所在平面上的垂直投影；所述光吸收层用于吸收所述显示面板曝光工艺中经所述开口入射至所述光吸收层中的光线。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述光吸收层与所述金属层之间的刻蚀阻挡层。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述衬底基板一侧的有源层以及位于所述有源层远离所述衬底基板一侧的绝缘层，所述绝缘层用于绝缘隔离所述有源层与所述金属层；

所述绝缘层与所述刻蚀阻挡层同层设置，且材料相同。

10.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述光吸收层包括叠层设置的第一偏光层和第二偏光层，所述第二偏光层位于所述第一偏光层远离所述衬底基板的一侧；所述第二偏光层的偏振方向与所述第一偏光层的偏振方向垂直。