[发明专利]一种曝光方法及显示面板

说明书

本发明提供一种曝光方法及显示面板，该方法包括：提供光刻机，光刻机包括载台，在载台表面提供衬底基板；在衬底基板远离载台的一侧制备光吸收层；在光吸收层远离载台的一侧制备金属层，金属层中设置有开口；在金属层远离载台的一侧制备光刻胶层并对光刻胶层进行曝光处理；经开口入射至光吸收层中的光线被光吸收层吸收。本发明实施例提供的曝光方法，通过设置光吸收层吸收经开口到达衬底基板后再经金属层多次反射叠加后到达光刻胶内的反射光，可以有效减弱反射光能量，从而达到减轻或者消除反射光对光刻胶的影响，进一步减轻或者消除载台色不均现象，提高光刻准精度。

技术领域

本发明实施例涉及光刻技术，尤其涉及一种曝光方法及显示面板。

背景技术

在面板制造行业中，光刻机放置基板的载台表面材料会存在光线反射效应，虽然经过材料的优化，反射率在不断下降，但一定程度的反射光仍会存在。

当光刻机进行曝光工作时，如图1所示，曝光光线会通过基板201’表面的图形开口区206’照射在载台101’上，而载台101’表面存在真空吸附孔102’等表面起伏结构，导致有各方向的反射光出现，而面板工艺中存在金属层203’，导致反射光S’在金属层203’与载台101’之间形成来回折射，并有一部分光重新通过表面的图形开口区206’照射至光刻胶204’，此部分光因折射效应使能量得以加强，超过了光刻胶204’的反应阈值，从而与光刻胶204’发生了化学反应，导致载台101’表面起伏结构对应位置处的光刻胶204’在后续显影过程中去除，载台101’表面起伏结构的图案在基板201’上能够被看到，形成了载台色不均现象(Stage Mura)。

发明内容

本发明实施例提供一种曝光方法及显示面板，通过设置光吸收层吸收经金属层中的开口入射至光吸收层中的光线，避免经金属层中的开口入射的光线在载台与金属层之间多次折射后进入光刻胶内，从而达到减轻或者消除载台色不均现象，提高光刻准精度。

第一方面，本发明实施例提供一种曝光方法，该方法包括：

提供光刻机，所述光刻机包括载台；

在所述载台表面提供衬底基板；

在所述衬底基板远离所述载台的一侧制备光吸收层；

在所述光吸收层远离所述载台的一侧制备金属层，所述金属层中设置有开口；所述光吸收层在所述衬底基板所在平面上的垂直投影至少覆盖所述开口在所述衬底基板所在平面上的垂直投影；

在所述金属层远离所述载台的一侧制备光刻胶层并对所述光刻胶层进行曝光处理；经所述开口入射至所述光吸收层中的光线被所述光吸收层吸收。

可选的，沿第一方向，所述光吸收层的厚度为H1，5μm≤H1≤10μm；所述第一方向垂直所述衬底基板所在平面。

可选的，在所述衬底基板远离所述载台的一侧制备光吸收层之后，还包括：

在所述光吸收层远离所述载台的一侧制备刻蚀阻挡层；

在所述光吸收层远离所述载台的一侧制备金属层，包括：

在所述刻蚀阻挡层远离所述载台的一侧制备金属层。

可选的，在所述光吸收层远离所述载台的一侧制备金属层之前，还包括：

在所述衬底基板远离所述载台的一侧制备有源层；

在所述有源层远离所述载台的一侧制备绝缘层，所述绝缘层用于绝缘隔离所述有源层与所述金属层；其中，所述绝缘层与所述刻蚀阻挡层在同一工艺中采用同种材料制备得到。

可选的，沿第一方向，所述光吸收层的厚度为H2，1μm≤H2≤5μm；所述第一方向垂直所述衬底基板所在平面。

可选的，在所述衬底基板远离所述载台的一侧制备光吸收层，包括：