[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法在审
| 申请号: | 202110748982.2 | 申请日: | 2021-07-02 |
| 公开(公告)号: | CN113948362A | 公开(公告)日: | 2022-01-18 |
| 发明(设计)人: | 松浦广行;安藤武 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 提供一种能够延长干式清洗周期的技术。根据本公开的一个实施方式的等离子体处理装置包括:处理容器,具有在侧壁上形成有开口的筒体状,并且多级地容纳多个基板;等离子体区划壁,气密地设置在所述处理容器的侧壁上,并且覆盖所述开口并对等离子体生成空间进行界定;第一等离子体电极对,包括与所述等离子体区划壁的两侧的外表面相对地布置的一对电极,并且被施加RF电力;以及第二等离子体电极对,包括与所述等离子体区划壁的两侧的外表面相对地布置的一对电极,并且被施加RF电力。 | ||
| 搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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