[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法在审

专利信息
申请号: 202110748982.2 申请日: 2021-07-02
公开(公告)号: CN113948362A 公开(公告)日: 2022-01-18
发明(设计)人: 松浦广行;安藤武 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 吕琳;朴秀玉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种能够延长干式清洗周期的技术。根据本公开的一个实施方式的等离子体处理装置包括:处理容器,具有在侧壁上形成有开口的筒体状,并且多级地容纳多个基板;等离子体区划壁,气密地设置在所述处理容器的侧壁上,并且覆盖所述开口并对等离子体生成空间进行界定;第一等离子体电极对,包括与所述等离子体区划壁的两侧的外表面相对地布置的一对电极,并且被施加RF电力;以及第二等离子体电极对,包括与所述等离子体区划壁的两侧的外表面相对地布置的一对电极,并且被施加RF电力。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
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