[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202110710451.4 | 申请日： | 2021-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN113889392A | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 齐藤武尚;梅泽义弘;藤原直树 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置。等离子体处理装置具备的天线由导电性的材料形为线状，且隔着电介质窗设置于腔室的上方。天线通过向腔室内辐射RF电力来在腔室内生成等离子体。构成天线的线路的两端开放，从电力供给部向线路的中点附近供电，该天线在线路的中点附近被接地，该天线以从电力供给部供给的RF波电力的1/2波长进行谐振。天线的第一部分与电介质窗的下表面之间的距离、以及天线的第二部分与电介质窗的下表面的距离比天线的中间部分与电介质窗的下表面之间的距离长，第一部分是天线的从的第一端部起的第一距离的范围的部分，第二部分是天线的从第二端部起的第二距离的范围的部分，中间部分是天线的第一部分与第二部分之间的部分。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110710451.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
