[发明专利]一种半导体结构处理机台及操作方法、静电吸盘有效
| 申请号： | 202110682643.9 | 申请日： | 2021-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN113421814B | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 王雄禹;王新胜;涂飞飞;张莉 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/683;C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 杨丽爽 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种半导体结构处理机台及操作方法、静电吸盘，包括：静电吸盘，静电吸盘包括贯穿静电吸盘的第一贯穿孔；传输通道，传输通道与第一贯穿孔连通，以允许第一物质在操作中经由传输通道到达第一贯穿孔；第一冷却装置，第一冷却装置包括不同于第一物质的第二物质且被配置为在操作中利用第二物质降低第一物质的温度，第一物质和第二物质的沸点均小于零度，第一物质的沸点小于第二物质的沸点。由于第一冷却装置包括不同于第一物质的第二物质且第一物质的沸点小于第二物质的沸点，能够通过第二物质降低第一物质的温度，进而通过第一物质更好的降低静电吸盘上晶圆的温度，降低由于热应力造成的晶圆弯曲变形，提高器件性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 结构 处理 机台 操作方法 静电 吸盘 | ||
【主权项】：
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