[发明专利]晶圆对准掩膜版生成方法、装置、计算机设备和存储介质在审
| 申请号： | 202110672856.3 | 申请日： | 2021-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN113608410A | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 李亮;韦亚一;张利斌;王云;薛静 | 申请（专利权）人： | 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 周清华 |
| 地址： | 510000 广东省广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种晶圆对准掩膜版生成方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括：获取晶圆对准的标识图形；将所述标识图形输入至预设的工艺模型，得到所述工艺模型输出的晶圆对准标识；通过预设的衍射光强模型，得到所述晶圆对准标识的第一衍射光强和第二衍射光强；根据所述第一衍射光强和第二衍射光强，得到所述晶圆对准的关键性能指标；若所述关键性能指标在预设的指标阈值内，则生成掩膜版制备指令；所述掩膜版制备指令用于指示生成所述晶圆对准掩膜版。采用本方法能够提高晶圆对准掩膜版制备的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 掩膜版 生成 方法 装置 计算机 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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