[发明专利]半导体结构在审

专利信息
申请号: 202110652726.3 申请日: 2021-06-11
公开(公告)号: CN114792686A 公开(公告)日: 2022-07-26
发明(设计)人: 张任远;赖佳平;李建璋 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本案描述的一些实施例提供了一种半导体结构。半导体结构包括一电容器元件,此电容器元件位于基板的凹入部分中。此凹入部分具有侧壁及位于基板的顶表面下方的底表面。半导体结构包括设置在电容器元件下方且在凹入部分内的介电材料。半导体结构包括邻近凹入部分的侧壁中的一或多者的第一导电结构。第一导电结构可包括基板的导电部分或设置在凹入部分内的导电材料。半导体结构包括耦接至第一导电结构的第二导电结构,其中第二导电结构提供从第一导电结构至电压源极或电压漏极的电连接。
搜索关键词: 半导体 结构
【主权项】:
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