[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板在审

专利信息
申请号: 202110650642.6 申请日: 2021-06-11
公开(公告)号: CN113437090A 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 李恭檀;李珊;徐铉植 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 黄舒悦
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板,阵列基板包括衬底、第一金属层、缓冲层和半导体层,第一金属层包括源极、漏极和遮光部,缓冲层覆盖第一金属层,半导体层设于缓冲层上,半导体层通过贯穿缓冲层的第一过孔与源极电连接,半导体通过贯穿缓冲层的第二过孔与漏极电连接。本发明通过将源极、漏极与遮光部同层设置于衬底上,源极、漏极与遮光部可采用同一道黄光制程形成,减少了光罩数量和制程步骤,有利于降低成本。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
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