[发明专利]任意方向自由路径阶梯通孔、基板及通孔结构的制作方法有效

专利信息
申请号: 202110628543.8 申请日: 2021-06-07
公开(公告)号: CN113260173B 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 陈先明;冯磊;黄本霞;洪业杰 申请(专利权)人: 珠海越亚半导体股份有限公司
主分类号: H05K3/40 分类号: H05K3/40;H05K3/42;H05K1/11;H01L21/48;H01L23/498
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 郑晨鸣
地址: 519175 广东省珠海*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开了一种任意方向自由路径阶梯通孔、基板及通孔结构的制作方法,该通孔结构的制作方法包括步骤:提供载板,在载板上制作第一结构,去除载板,在第一结构的上表面和下表面分别形成第二结构和第三结构,在第一结构、第二结构和第三结构内分别形成第一牺牲金属柱、第二牺牲金属柱和第三牺牲金属柱,第一牺牲金属柱、第二牺牲金属柱和第三牺牲金属柱中任意两个连通处形成台阶,任意两个形成的台阶可相对前后左右任意分布,去除第一牺牲金属柱、第二牺牲金属柱和第三牺牲金属柱,形成通孔,并对通孔孔壁进行金属化处理,本申请提出的通孔结构、通孔直径小,通孔结构设计自由度高,可以选择最优的方向和路径,合理避开基板内外层的线路。
搜索关键词: 任意 方向 自由 路径 阶梯 结构 制作方法
【主权项】:
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