[发明专利]任意方向自由路径阶梯通孔、基板及通孔结构的制作方法有效

专利信息
申请号: 202110628543.8 申请日: 2021-06-07
公开(公告)号: CN113260173B 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 陈先明;冯磊;黄本霞;洪业杰 申请(专利权)人: 珠海越亚半导体股份有限公司
主分类号: H05K3/40 分类号: H05K3/40;H05K3/42;H05K1/11;H01L21/48;H01L23/498
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 郑晨鸣
地址: 519175 广东省珠海*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 任意 方向 自由 路径 阶梯 结构 制作方法
【权利要求书】:

1.一种通孔结构的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

提供载板(10),在所述载板(10)上制作第一结构(100),所述第一结构(100)包括表面齐平的第一金属柱(110)和第一绝缘层(120),所述第一金属柱(110)通过所述第一绝缘层(120)间隔分布,所述第一金属柱(110)包括第一导通金属柱(111)和第一牺牲金属柱(112);

去除所述载板(10),在所述第一结构(100)的上表面形成第二结构(200),在所述第一结构(100)的下表面形成第三结构(300),所述第二结构(200)包括第一线路层(230)、第二绝缘层(220)和第二金属柱(210),所述第二金属柱(210)包括第二导通金属柱(211)和第二牺牲金属柱(212),所述第三结构(300)包括第二线路层(330)、第三绝缘层(320)和第三金属柱(310),所述第三金属柱(310)包括第三导通金属柱(311)和第三牺牲金属柱(312),所述第二绝缘层(220)与所述第一绝缘层(120)的上表面连接,所述第三绝缘层(320)与所述第一绝缘层(120)的下表面连接,所述第二导通金属柱(211)通过所述第一线路层(230) 与所述第一导通金属柱(111)相连通,所述第三导通金属柱(311)通过所述第二线路层(330)与所述第一导通金属柱(111)相连通;所述第二牺牲金属柱(212)和所述第三牺牲金属柱(312)与所述第一牺牲金属柱(112)的两端相连通,

其中,所述第一牺牲金属柱(112)、所述第二牺牲金属柱(212)和所述第三牺牲金属柱(312)中的至少之二在所述第一结构(100)上的投影错位排布且其边缘区域相互交错,所述第一牺牲金属柱(112)、所述第二牺牲金属柱(212)和所述第三牺牲金属柱(312)中任意两个连通处形成台阶(400),任意两个所述台阶(400)可相对前后左右任意分布;

在所述第二结构(200)的上表面形成第三线路层(430),在所述第三结构(300)的下表面形成第四线路层(530),所述第三线路层(430)与所述第二导通金属柱(211)的上表面相连通,所述第四线路层(530)与所述第三导通金属柱(311)的下表面相连通;

去除所述第一牺牲金属柱(112)、所述第二牺牲金属柱(212)和所述第三牺牲金属柱(312),形成通孔(500)。

2.根据权利要求1所述的通孔结构的制作方法,其特征在于,还包括对所述通孔(500)的孔壁进行金属化处理。

3.根据权利要求1所述的通孔结构的制作方法,其特征在于,所述第一牺牲金属柱(112)、所述第二牺牲金属柱(212)和所述第三牺牲金属柱(312)的形状包括圆柱体和/或立方体。

4.根据权利要求1所述的通孔结构的制作方法,其特征在于,在所述载板(10)上制作第一结构(100)包括:在所述载板(10)上形成光阻层(600),对所述光阻层(600)进行图案制作,形成第一金属柱(110)的图形区,在所述第一金属柱(110)的图形区沉积金属形成所述第一金属柱(110),并去除所述光阻层(600),层压第一绝缘层(120),使所述第一绝缘层(120)与所述第一金属柱(110)表面齐平。

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