[发明专利]一种大相对孔径高光谱成像光学系统在审

专利信息
申请号: 202110614248.7 申请日: 2021-06-02
公开(公告)号: CN113532644A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 王保华;唐绍凡;徐彭梅;王伟刚;王杰;张秀茜;陈龙;石峰;贺瑞聪;刘宇翔;王媛媛;刘志敏 申请(专利权)人: 北京空间机电研究所
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/04;G01J3/02;G01N21/3581;G01N21/35;G01N21/01
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 高志瑞
地址: 100076 北京市丰*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种大相对孔径高光谱成像光学系统,包括:三狭缝组件、平面折转镜、第一透镜、第二透镜、第三透镜、凹面光栅和像面,三狭缝组件用于提升长波红外辐射的入射能量,提高高光谱成像系统的信噪比。目标辐射的长波红外谱段经三狭缝组件入射到平面折转镜,依次经第一透镜、第二透镜和第三透镜透射后,由第三透镜后表面入射到凹面光栅,经凹面光栅色散分光后反射第三透镜后表面,依次经第三透镜、第二透镜和第一透镜透射后汇聚到像面处。本发明可实现长波红外谱段三狭缝狭缝同时高光谱成像,提升长波红外高光谱成像仪的信噪比,具有相对孔径大、狭缝长、体积小、成像质量好等优点,可用于星载、平流层飞艇和机载红外高光谱成像领域。
搜索关键词: 一种 相对孔径 光谱 成像 光学系统
【主权项】:
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