[发明专利]一种大相对孔径高光谱成像光学系统在审
| 申请号： | 202110614248.7 | 申请日： | 2021-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN113532644A | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 王保华;唐绍凡;徐彭梅;王伟刚;王杰;张秀茜;陈龙;石峰;贺瑞聪;刘宇翔;王媛媛;刘志敏 | 申请（专利权）人： | 北京空间机电研究所 |
| 主分类号： | G01J3/28 | 分类号： | G01J3/28;G01J3/04;G01J3/02;G01N21/3581;G01N21/35;G01N21/01 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 高志瑞 |
| 地址： | 100076 北京市丰*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 相对孔径 光谱 成像 光学系统 | ||
1.一种大相对孔径高光谱成像光学系统，其特征在于包括：三狭缝组件(E1)、平面折转镜(E2)、第一透镜(E3)、第二透镜(E4)、第三透镜(E5)、凹面光栅(E6)和像面(E7)；其中，
目标辐射的长波红外同时经三狭缝组件(E1)入射到平面折转镜(E2)，经反射后入射到第一透镜(E3)，经第一透镜(E3)的前表面(S1)和后表面(S2)透射后入射到第二透镜(E4)，经第二透镜(E4)的前表面(S3)和后表面(S4)透射后入射到第三透镜(E5)，经第三透镜(E5)的前表面(S5)和后表面(S6)透射后入射到凹面光栅(E6)，经凹面光栅(E6)色散分光后反射到第三透镜(E5)的后表面(S6)，依次经第三透镜(E5)、第二透镜(E4)和第一透镜(E3)透射后成像到像面(E7)处。
2.根据权利要求1所述的大相对孔径高光谱成像光学系统，其特征在于：所述长波红外谱段范围为8μm～12.5μm，光谱分辨率为100nm。
3.根据权利要求1所述的大相对孔径高光谱成像光学系统，其特征在于：所述大相对孔径高光谱成像光学系统的相对孔径为1/2，空间放大倍率为1。
4.根据权利要求1所述的大相对孔径高光谱成像光学系统，其特征在于：所述三狭缝组件(E1)由3个相同的单通光狭缝装置平行排列组成；其中，每个单通光狭缝装置的长度为24mm，宽度为32μm；相邻单通光狭缝装置之间的间隔为1.6mm。
5.根据权利要求1所述的大相对孔径高光谱成像光学系统，其特征在于：所述平面折转镜(E1)的材料为铝，与入射光线成45°放置。
6.根据权利要求1所述的大相对孔径高光谱成像光学系统，其特征在于：所述第一透镜(E3)的材料为ZnS，所述第一透镜(E3)的前表面(S1)为六次非球面，所述第一透镜(E3)的后表面(S2)为球面。
7.根据权利要求1所述的大相对孔径高光谱成像光学系统，其特征在于：所述第二透镜(E4)的材料为ZnSe，所述第二透镜(E4)的前表面(S3)为六次非球面，所述第二透镜(E4)的后表面(S4)为球面。
8.根据权利要求1所述的大相对孔径高光谱成像光学系统，其特征在于：所述第三透镜(E5)的材料为ZnS，所述第三透镜(E5)的前表面(S5)为六次非球面，所述第三透镜(E5)的后表面(S6)为球面。
9.根据权利要求1所述的大相对孔径高光谱成像光学系统，其特征在于：所述凹面光栅(E6)表面刻蚀闪耀槽，并镀金膜。
10.根据权利要求1所述的大相对孔径高光谱成像光学系统，其特征在于：所述像面(E3)由3个区域组成，每个区域的面积为24mm×1.44mm，三个区域之间的间隔为0.16mm。
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