[发明专利]一种应用于高功率光源芯片的面阵喷射降压强化散热装置在审

专利信息
申请号: 202110557623.9 申请日: 2021-05-21
公开(公告)号: CN113285008A 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 陈琅;李特;王贞福;于学成 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: H01L33/64 分类号: H01L33/64;H01S5/024;H01L23/367;H01L23/373;H01L23/473
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 史晓丽
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明的目的是解决在满足现有散热装置的散热能力前提下,如何降低散热装置内部压强的问题,而提供一种应用于高功率光源芯片的面阵喷射降压强化散热装置。该散热装置包括自上而下相互层叠设置的上密封叠片、上冷却叠片、导流叠片、下冷却叠片和下密封叠片。导流叠片上设置有面阵喷射结构,面阵喷射结构由N×M个喷射孔组成,其中N为列,M为行;上冷却叠片的第四镂空微结构内,与面阵喷射结构相对应的位置设有热量导引片,热量导引片采用铜或金刚石或碳化硅制作,包括X个的筋条,X个的筋条构成X+1个微型通道,每个筋条与其相邻筋条的距离相等;最外侧微型通道的宽度大于内侧。面阵喷射结构用于降压,热量导引片用于补偿面阵喷射结构的温升。
搜索关键词: 一种 应用于 功率 光源 芯片 喷射 降压 强化 散热 装置
【主权项】:
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