[发明专利]成膜装置以及板在审
申请号: | 202110467079.9 | 申请日: | 2021-04-28 |
公开(公告)号: | CN113621943A | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 醍醐佳明;梅津拓人;石黑晓夫 | 申请(专利权)人: | 纽富来科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46;C23C16/32;C23C16/52 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 夏斌 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实施方式提供成膜装置以及板,能够在径向上控制向基板面内供给的工艺气体的浓度、流量。本实施方式的成膜装置具备:成膜室,能够收容基板;气体供给部,具有设置在成膜室的上部并向基板的成膜面上供给工艺气体的多个喷嘴、以及抑制工艺气体的温度上升的冷却部;加热器,将基板加热到1500℃以上;以及板,在成膜室内与形成有多个喷嘴的第1开口部的气体供给部的下表面对置,且与该下表面分离地配置,板包括:多个第2开口部,具有比第1开口部小的直径,且在该板面内大致均匀地配置;以及分隔部,在与气体供给部对置的对置面上突出,将板的面内分隔为多个区域。 | ||
搜索关键词: | 装置 以及 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的