[发明专利]一种用于光刻机上的真空检测装置在审

专利信息
申请号: 202110451054.X 申请日: 2021-04-26
公开(公告)号: CN113176715A 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 张俊杰 申请(专利权)人: 上海图双精密装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海海贝律师事务所 31301 代理人: 宋振宇
地址: 201712 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种用于光刻机上的真空检测装置,包括底座,底座上侧安装有上罩体,上罩体内顶部设有滑槽,且滑槽内安装有Y轴丝杆和Y轴滑块,且两个Y轴滑块之间安装有横向支撑板,横向支撑板下侧通过支臂安装有X轴丝杆和X轴滑块,X轴滑块下侧安装有Z轴电动推杆,Z轴电动推杆下侧通过安装座安装有真空检测装置,上罩体内部一侧通过第一连接杆安装有第一定位夹座,上罩体内部另一侧通过第二连接杆安装有第二定位夹座,第二连接杆通过齿轮组传动连接有第一电机,本发明通过设有的Y轴丝杠、X轴丝杠和Z轴电动推杆,使得便于对真空检测装置沿Y轴、X轴和Z轴移动调节处理,从而满足不同位置的检测处理,有利于提高检测的效率。
搜索关键词: 一种 用于 光刻 真空 检测 装置
【主权项】:
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