[发明专利]一种用于光刻机上的真空检测装置在审
申请号: | 202110451054.X | 申请日: | 2021-04-26 |
公开(公告)号: | CN113176715A | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 张俊杰 | 申请(专利权)人: | 上海图双精密装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海海贝律师事务所 31301 | 代理人: | 宋振宇 |
地址: | 201712 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于光刻机上的真空检测装置,包括底座,底座上侧安装有上罩体,上罩体内顶部设有滑槽,且滑槽内安装有Y轴丝杆和Y轴滑块,且两个Y轴滑块之间安装有横向支撑板,横向支撑板下侧通过支臂安装有X轴丝杆和X轴滑块,X轴滑块下侧安装有Z轴电动推杆,Z轴电动推杆下侧通过安装座安装有真空检测装置,上罩体内部一侧通过第一连接杆安装有第一定位夹座,上罩体内部另一侧通过第二连接杆安装有第二定位夹座,第二连接杆通过齿轮组传动连接有第一电机,本发明通过设有的Y轴丝杠、X轴丝杠和Z轴电动推杆,使得便于对真空检测装置沿Y轴、X轴和Z轴移动调节处理,从而满足不同位置的检测处理,有利于提高检测的效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 光刻 真空 检测 装置 | ||
【主权项】:
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