[发明专利]一种用于光刻机上的真空检测装置在审

专利信息
申请号: 202110451054.X 申请日: 2021-04-26
公开(公告)号: CN113176715A 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 张俊杰 申请(专利权)人: 上海图双精密装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海海贝律师事务所 31301 代理人: 宋振宇
地址: 201712 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 光刻 真空 检测 装置
【权利要求书】:

1.一种用于光刻机上的真空检测装置,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)上侧安装有上罩体(2),所述上罩体(2)内顶部两侧均开设有滑槽(3),且滑槽(3)内安装有Y轴丝杆(4),所述Y轴丝杆(4)上螺纹安装有Y轴滑块(5),且两个Y轴滑块(5)之间安装有横向支撑板(6),所述横向支撑板(6)下侧通过支臂(7)安装有X轴丝杆(8),所述X轴丝杆(8)上螺纹安装有X轴滑块(9),所述X轴滑块(9)下侧安装有Z轴电动推杆(10),所述Z轴电动推杆(10)下侧通过安装座安装有真空检测装置(11),所述上罩体(2)内部一侧通过第一连接杆(13)安装有第一定位夹座(16),所述上罩体(2)内部另一侧通过第二连接杆(19)安装有第二定位夹座(20),所述第二连接杆(19)通过齿轮组传动连接有第一电机(23)。

2.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置,其特征在于:所述第一定位夹座(16)和第二定位夹座(20)一侧均开设有凹槽(28),所述凹槽(28)内侧安装有防护垫(29)。

3.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置,其特征在于:所述Y轴丝杆(4)和Y轴滑块(5)在上罩体(2)顶部的滑槽(3)内平行安装有两组,所述Y轴丝杆(4)一端传动连接有第二电机(27),且第二电机(27)安装在上罩体(2)外侧。

4.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置,其特征在于:所述第一连接杆(13)和第一定位夹座(16)之间通过第一轴承套圈(15)转动连接,所述第二连接杆(19)一端通过第二轴承套圈(21)与上罩体(2)内壁转动连接。

5.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置,其特征在于:所述第二连接杆(19)上安装有从动齿轮(22),所述第一电机(23)一端传动连接有主动齿轮(24),且主动齿轮(24)和从动齿轮(22)啮合连接。

6.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置,其特征在于:所述第一连接杆(13)一端传动连接有气缸(14),所述气缸(14)安装在上罩体(2)外侧。

7.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置,其特征在于:所述X轴丝杆(8)一端传动连接有第三电机(12),所述底座(1)一端上侧安装有PLC控制柜(17),且第一电机(23)和第三电机(12)均与PLC控制柜(17)电性连接。

8.根据权利要求1所述的一种用于光刻机上的真空检测装置,其特征在于:所述上罩体(2)一侧安装有罩门(25),所述罩门(25)内部安装有透视窗(26)。

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