[发明专利]一种用于光刻机上的真空检测装置

说明书

本发明公开了一种用于光刻机上的真空检测装置，包括底座，底座上侧安装有上罩体，上罩体内顶部设有滑槽，且滑槽内安装有Y轴丝杆和Y轴滑块，且两个Y轴滑块之间安装有横向支撑板，横向支撑板下侧通过支臂安装有X轴丝杆和X轴滑块，X轴滑块下侧安装有Z轴电动推杆，Z轴电动推杆下侧通过安装座安装有真空检测装置，上罩体内部一侧通过第一连接杆安装有第一定位夹座，上罩体内部另一侧通过第二连接杆安装有第二定位夹座，第二连接杆通过齿轮组传动连接有第一电机，本发明通过设有的Y轴丝杠、X轴丝杠和Z轴电动推杆，使得便于对真空检测装置沿Y轴、X轴和Z轴移动调节处理，从而满足不同位置的检测处理，有利于提高检测的效率。

技术领域

本发明涉及检测设备技术领域，具体是一种用于光刻机上的真空检测装置。

背景技术

光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造。真空检测装置在光刻机传片、传版以及各移动平台部分具有重要的作用；对掩膜版进行真空检测时，首先将掩膜版进行限位固定，由于保证对其检测时的稳定性。

现有技术中申请号为CN202010902638.X的用于光刻机上的真空检测装置，包括底座，所述底座上固定连接有两个支撑板，两个所述支撑板之间固定连接有安装板，所述安装板与底座之间设有可以升降的连接板，所述连接板的两端均设有可以调节的压板机构，所述底座上设有滑动槽，所述滑动槽内滑动连接有两个压台，两个所述压台与两个支撑板之间设有传动机构，所述连接板的底部设有可以移动的真空检测装置，所述压板机构包括设置在连接板内的安装槽，所述安装槽内滑动连接有L型板，所述连接板上贯穿设有与其螺纹连接的定位螺栓。本发明结构合理，可以对不同大小的掩膜版进行限位，便于对其进行真空检测，实用性较好，也可以对掩膜版进行保护，防止其受损。但是，难以对真空检测装置进行全方位的移动调节处理，难以满足不同位置的检测处理，而且需手动翻转调节掩膜版进行检测处理，降低了检测的效率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于光刻机上的真空检测装置，以解决现有技术中难以对真空检测装置进行全方位的移动调节处理，难以满足不同位置的检测处理，而且需手动翻转调节掩膜版进行检测处理，降低了检测的效率的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种用于光刻机上的真空检测装置，包括底座，所述底座上侧安装有上罩体，所述上罩体内顶部两侧均开设有滑槽，且滑槽内安装有Y轴丝杆，所述Y轴丝杆上螺纹安装有Y轴滑块，且两个Y轴滑块之间安装有横向支撑板，所述横向支撑板下侧通过支臂安装有X轴丝杆，所述X轴丝杆上螺纹安装有X轴滑块，所述X轴滑块下侧安装有Z轴电动推杆，所述Z轴电动推杆下侧通过安装座安装有真空检测装置，所述上罩体内部一侧通过第一连接杆安装有第一定位夹座，所述上罩体内部另一侧通过第二连接杆安装有第二定位夹座，所述第二连接杆通过齿轮组传动连接有第一电机。

进一步的，所述第一定位夹座和第二定位夹座一侧均开设有凹槽，所述凹槽内侧安装有防护垫。

进一步的，所述Y轴丝杆和Y轴滑块在上罩体顶部的滑槽内平行安装有两组，所述Y轴丝杆一端传动连接有第二电机，且第二电机安装在上罩体外侧。

进一步的，所述第一连接杆和第一定位夹座之间通过第一轴承套圈转动连接，所述第二连接杆一端通过第二轴承套圈与上罩体内壁转动连接。

进一步的，所述第二连接杆上安装有从动齿轮，所述第一电机一端传动连接有主动齿轮，且主动齿轮和从动齿轮啮合连接。

进一步的，所述第一连接杆一端传动连接有气缸，所述气缸安装在上罩体外侧。

进一步的，所述X轴丝杆一端传动连接有第三电机，所述底座一端上侧安装有PLC控制柜，且第一电机和第三电机均与PLC控制柜电性连接。