[发明专利]发光元件及其制造方法在审
| 申请号： | 202110441715.0 | 申请日： | 2021-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN113555482A | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | 杨智咏;王心盈;郭得山;陈昭兴;林羿宏;洪孟祥;洪国庆;吕政霖 | 申请（专利权）人： | 晶元光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/44 | 分类号： | H01L33/44;H01L33/46;H01L33/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种发光元件及其制造方法，其中该发光元件包含一半导体叠层，依序包含一第一半导体层、一活性区域以及一第二半导体层，其中该第一半导体层包含一第一半导体层上表面；一暴露区，位于半导体叠层内，暴露第一半导体层上表面；一第一保护层，覆盖暴露区以及部分第二半导体层；一第一反射结构，位于第二半导体层上，包含一或多个第一开口；以及一第二反射结构，位于第一反射结构上，经由第一开口与第二半导体层电连接；其中，第一保护层的一部分位于第一半导体层上表面之上且具有一第一厚度，第一保护层的另一部分位于第二半导体层之上且具有一第二厚度，第一厚度小于第二厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
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