[发明专利]一种MPCVD设备温度控制装置及控制方法有效
| 申请号： | 202110399533.1 | 申请日： | 2021-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN113515151B | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 龚闯;朱长征;吴剑波;杨春梅 | 申请（专利权）人： | 上海征世科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G05D23/20 | 分类号： | G05D23/20 |
| 代理公司： | 上海邦德专利代理事务所(普通合伙) 31312 | 代理人： | 袁步兰 |
| 地址： | 201799 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种MPCVD设备温度控制装置及控制方法，该温度控制装置包括基片台、底座，所述底座设置在基片台下方，底座内设置有感应组件、冷却组件，所述感应组件与基片台固定，所述冷却组件与基片台管道连接，所述感应组件连接有控制系统。感应组件通过塞贝克效应对基片台各个区域的温度进行监测，并将监测时产生的电流传输到控制系统中，控制系统根据电流大小对冷却组件中水流的流速进行控制，基片台温度越高，冷却水的流速就越大，冷却组件对基片台各个区域的温度进行调节，从而实现基片台局部温度的调节。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 mpcvd 设备 温度 控制 装置 方法 | ||
【主权项】：
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