[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板有效
| 申请号： | 202110381998.4 | 申请日： | 2021-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN113193092B | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | 张婷 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/46 | 分类号： | H01L33/46;H01L27/15 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杜蕾 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，通过调整第一蚀刻电压和第二蚀刻电压大小，以及蚀刻所需氧气含量、蚀刻压力值，并对多层介电材料层进行多次蚀刻，使得多层介电材料层上形成第二开口，且多层介电材料层中每一层介电材料层均在第二开口处形成倾角；由于在多次蚀刻过程中调整了蚀刻所需的蚀刻电压、蚀刻所需氧气含量、蚀刻压力值等参数，使得多层介电材料层中每一层介电材料层形成的倾角减小，多层介电材料层在第二开口平滑过渡，避免在倾角处出现爬坡断线的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110381998.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
