[发明专利]一种偏光片保护膜用基膜制备工艺及设备在审
| 申请号： | 202110368740.0 | 申请日： | 2021-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN113071122A | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | 李刚;程凡宝;孙艳斌;杨彪;李明勇;李宇航;刘小东;杨建鹏;李彬彬;孙楠楠 | 申请（专利权）人： | 山东胜通光学材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B29D7/01 | 分类号： | B29D7/01 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 257000 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种偏光片保护膜用基膜制备工艺及设备，包括模头、输料管线、计量挤出机、过滤器、混合容器、直流电机、电子元件、控制系统、计量泵和聚酯铸片。该一种偏光片保护膜用基膜制备工艺及设备，其生产出来的基膜产品具有优良的光学表观性能，保护膜表面无异物、白点、蹭伤、折痕等缺陷，方便在不去除保护膜的情况下进行偏光片表观测试，同时防止各种缺陷对TAC膜的损伤和污染，耐候性及持粘力稳定性，经数日或更久剥离力增长不明显，易于撕去且被保护表面无残胶，无留影，保护膜对被保护表面具有良好的粘附性能，在材料搬运或加工过程中，保护膜不会起翘，脱落，抗静电处理，带电量低，防止静电吸附灰尘，污染偏光片表面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 偏光 保护膜 用基膜 制备 工艺 设备 | ||
【主权项】：
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