[发明专利]光谱分析装置以及用于光谱分析装置的操作方法和程序在审

专利信息
申请号: 202110352030.9 申请日: 2021-03-31
公开(公告)号: CN113466183A 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 原理纱;猿谷敏之;村山广大;渡边芙美枝 申请(专利权)人: 横河电机株式会社
主分类号: G01N21/552 分类号: G01N21/552;G01N21/31;G01N21/59
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陆嘉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开提供了一种光谱分析装置,其包括检测器和处理器。所述检测器检测通过用辐照光辐照包含物质的样品而获得的测量光,所述样品设置于在其上产生表面等离激元的膜上。所述测量光包括关于所述样品的光谱的信息,并且所述信息包括所述表面等离激元的共振光谱和所述样品的吸收光谱。所述处理器:计算出产生所述共振光谱和所述吸收光谱的波长带中的峰值波长;基于所包含的物质的吸收带计算出所包含的物质的峰值吸光度;并且基于所述峰值波长和所述峰值吸光度计算出所包含的物质与所述样品的比率。
搜索关键词: 光谱分析 装置 以及 用于 操作方法 程序
【主权项】:
暂无信息
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