[发明专利]光谱分析装置以及用于光谱分析装置的操作方法和程序在审

专利信息
申请号: 202110352030.9 申请日: 2021-03-31
公开(公告)号: CN113466183A 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 原理纱;猿谷敏之;村山广大;渡边芙美枝 申请(专利权)人: 横河电机株式会社
主分类号: G01N21/552 分类号: G01N21/552;G01N21/31;G01N21/59
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陆嘉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光谱分析 装置 以及 用于 操作方法 程序
【权利要求书】:

1.一种光谱分析装置,包括:

检测器,所述检测器检测通过用辐照光辐照包含物质的样品而获得的测量光,所述样品设置于在其上产生表面等离激元的膜上,其中所述测量光包括关于所述样品的光谱的信息,并且所述信息包括所述表面等离激元的共振光谱和所述样品的吸收光谱;以及

处理器,所述处理器:

计算产生所述共振光谱和所述吸收光谱的波长带中的峰值波长;

基于所述包含的物质的吸收带计算出所述包含的物质的峰值吸光度;并且

基于所述峰值波长和所述峰值吸光度计算所述包含的物质与所述样品的比率。

2.根据权利要求1所述的光谱分析装置,其中

所述处理器使用在样品不包含所述包含的物质的状态下的光谱的基线来校正所述光谱,并且

所述处理器基于校正后的光谱计算所述吸光度。

3.根据权利要求1或2所述的光谱分析装置,其中

所述处理器进一步:

基于所述峰值波长计算所述包含的物质与所述样品的第一比率;

基于所述峰值吸光度计算所述包含的物质与所述样品的第二比率,并且

所述处理器在所述第一比率与所述第二比率不匹配的情况下输出预定信息。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的光谱分析装置,其中所述检测器在工业过程中在线使用所述样品来检测所述测量光。

5.一种使用光谱分析装置的操作方法,所述方法包括:

检测通过用辐照光辐照包含物质的样品而获得的测量光,所述样品设置于在其上产生表面等离激元的膜上,其中所述测量光包括关于所述样品的光谱的信息,并且所述信息包括所述表面等离激元的共振光谱和所述样品的吸收光谱;

计算产生所述共振光谱和所述吸收光谱的波长带中的峰值波长;

基于所述包含的物质的吸收带计算所述包含的物质的峰值吸光度;以及

基于所述峰值波长和所述峰值吸光度计算所述包含的物质与所述样品的比率。

6.一种非暂时性计算机可读介质(CRM),所述非暂时性计算机可读介质存储指令,所述指令存储使计算机执行操作的程序指令,所述操作包括:

检测通过用辐照光辐照包含物质的样品而获得的测量光,所述样品设置于在其上产生表面等离激元的膜上,其中所述测量光包括关于所述样品的光谱的信息,并且所述信息包括所述表面等离激元的共振光谱和所述样品的吸收光谱;

计算产生所述共振光谱和所述吸收光谱的波长带中的峰值波长;

基于所述包含的物质的吸收带计算所述包含的物质的峰值吸光度;以及

基于所述峰值波长和所述峰值吸光度计算所述包含的物质与所述样品的比率。

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