[发明专利]光谱分析装置以及用于光谱分析装置的操作方法和程序在审
申请号: | 202110352030.9 | 申请日: | 2021-03-31 |
公开(公告)号: | CN113466183A | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 原理纱;猿谷敏之;村山广大;渡边芙美枝 | 申请(专利权)人: | 横河电机株式会社 |
主分类号: | G01N21/552 | 分类号: | G01N21/552;G01N21/31;G01N21/59 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆嘉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光谱分析 装置 以及 用于 操作方法 程序 | ||
本公开提供了一种光谱分析装置,其包括检测器和处理器。所述检测器检测通过用辐照光辐照包含物质的样品而获得的测量光,所述样品设置于在其上产生表面等离激元的膜上。所述测量光包括关于所述样品的光谱的信息,并且所述信息包括所述表面等离激元的共振光谱和所述样品的吸收光谱。所述处理器:计算出产生所述共振光谱和所述吸收光谱的波长带中的峰值波长;基于所包含的物质的吸收带计算出所包含的物质的峰值吸光度;并且基于所述峰值波长和所述峰值吸光度计算出所包含的物质与所述样品的比率。
技术领域
本发明总体上涉及一种光谱分析装置以及一种用于光谱分析装置的操作方法和程序。
背景技术
常规已知用于分析溶液等样品的状态的技术。例如,专利文献1公开了用于使用卡尔·费休(Karl Fischer)试剂来测量样品中的水分含量的技术。此外,专利文献2公开了利用光入射在与样品接触的金属层的内表面上时表面等离激元的减少来测量样品的浓度、折射率等的技术。另外,专利文献3公开了用于经由通过将样品逐滴添加到吸水率测量芯片上而形成光学负载膜并且测量吸光度来测量样品的水分百分比的技术。
专利文献
专利文献1:JP 2018-4611 A
专利文献2:JP 2015-175780 A
专利文献3:JP 2008-209170 A
在常规技术中测量样品的水分百分比的精度方面存在改进空间。此外,在常规技术中测量效率存在改进空间。
发明内容
本发明的一个或多个实施例提供了一种使得能够改进样品的状态的测量精度和效率的光谱分析装置。
根据一个或多个实施例的光谱分析装置包括:检测器,所述检测器用于检测通过用辐照光辐照设置于膜上的样品而获得的测量光,在所述膜上产生表面等离激元,所述测量光包括关于光谱的信息,所述光谱包括所述表面等离激元的共振光谱和所述样品的吸收光谱;以及处理单元,所述处理单元用于在所述光谱中导出产生所述共振光谱和所述吸收光谱的波长带中的峰值波长以及在预定波长下的吸光度,并且从所述峰值波长和所述吸光度导出所述样品中包含的物质的比率。除了所述样品的折射率之外还使用所述包含的物质的吸光度使得能够改进所述样品的状态的测量精度和效率。
在根据一个或多个实施例的所述光谱分析装置中,所述处理单元使用在其中所述样品不包含所述包含的物质的状态下的所述光谱的基线来校正所述光谱并且导出所述吸光度。对所述光谱执行基线校正处理改进了计算所述包含的物质的吸光度的精度。
在根据一个或多个实施例的所述光谱分析装置中,当根据所述峰值波长或所述吸光度计算出的所述比率与根据所述峰值波长或所述吸光度中的另一个计算出的比率不匹配时,所述处理单元输出预定信息。在所述样品的状态可能波动的测量中,所述光谱分析装置能够输出预定信息,使得操作者能够在早期阶段检测到所述样品的状态中的波动。
根据一个或多个实施例的光谱分析装置操作方法包括:用于检测通过用辐照光辐照设置于膜上的样品而获得的测量光的步骤,在所述膜上产生表面等离激元,所述测量光包括关于光谱的信息,所述光谱包括所述表面等离激元的共振光谱和所述样品的吸收光谱;以及用于在所述光谱中导出产生所述共振光谱和所述吸收光谱的波长带中的峰值波长以及在预定波长下的吸光度并且从所述峰值波长和所述吸光度导出所述样品中包含的物质的比率的步骤。除了所述样品的折射率之外还使用所述包含的物质的吸光度,使得能够改进所述样品的状态的测量精度和效率。
根据一个或多个实施例,可以改进样品的状态的测量精度和效率。
附图说明
图1是图示了光谱分析装置的轮廓配置的示意图。
图2是与光谱分析装置的配置相对应的框图。
图3是图示了光谱的示例的图。
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