[发明专利]一种在透射电子显微镜中原位施加应力的方法有效
| 申请号： | 202110295996.3 | 申请日： | 2021-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN113125475B | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 车仁超;杨利廷;游文彬;裴科;李晓;张捷 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04;G01N23/20058;G01N23/20008;G01N19/00;G01N1/28 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 刘燕武 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在透射电子显微镜中原位施加应力的方法，基于自主设计的原位四电极电学芯片，利用聚焦离子束刻蚀加工技术，将测试材料与典型压电晶体材料组装成微米级条带；使用聚焦离子束中沉积的铂连接测试材料与芯片上的两个电极，也将另外两个电极连接到压电陶瓷材料两端；使用原位样品杆将测试样品放入透射电镜中，对压电晶体施加电压，利用其特有的压电效应实现对测试样品定量施加压应力/拉应力，同时记录应力对于测试材料电学性能、电化学性能、磁学性能等影响。该方法制备样品简单，施加应力精确可控，可同时对样品施加拉应力和压应力，具有很好的普适性，为研究材料中应力与性能之间的关联性提供新的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透射 电子显微镜 原位 施加 应力 方法 | ||
【主权项】：
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