[发明专利]一种具有磺酸基基团的改性MXene材料的制备方法有效
申请号: | 202110277847.4 | 申请日: | 2021-03-15 |
公开(公告)号: | CN113042078B | 公开(公告)日: | 2022-05-06 |
发明(设计)人: | 魏中哲;赵梓江;王建国 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | B01J27/22 | 分类号: | B01J27/22;B01J31/02;B01J35/00;C07C5/09;C07C15/46 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人: | 周红芳 |
地址: | 310014 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: |
本发明公开了一种具有磺酸基官能团的MXene材料的制备方法,其过程为:MAX相材料先经氢氟酸蚀刻后,得到具备手风琴结构的二维层状MXene材料;二维层状MXene材料再经具有磺酸基阴离子的离子液体进行改性,使其手风琴结构进一步被剥离形成少层结构,且离子液体的阴离子基团迁移结合到二维层状MXene材料表面,即得具有磺酸基基团的改性MXene材料。使用本发明制备的带有磺酸基阴离子的Pd/V |
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搜索关键词: | 一种 具有 磺酸基 基团 改性 mxene 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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