[发明专利]一种新型FEI850离子束修补机电子中和漏斗

摘要

本发明涉及掩模制版技术领域，且公开了一种新型FEI离子束修补机电子中和漏斗，包括电子中和漏斗本体，所述电子中和漏斗本体的一侧安装有支撑连杆，所述支撑连杆的顶部安装有工艺气体管道，所述工艺气体管道的端部安装有工艺气体喷嘴，所述电子中和漏斗本体的中间位置处开设有中心孔，所述电子中和漏斗本体的内部设置有内侧面和最低面。该一种新型FEI850离子束修补机电子中和漏斗，通过设置电子中和漏斗本体、内侧面和最低面，使得本发明具有防干扰功能和高效吸附性能，进而在设备修补过程中，具有对离子、电子更好的吸附性能，同时可根据二次离子束和二次电子流成像原理，避免了发散离子和电子的干扰，使得修补精度更高，成像更清晰。