[发明专利]一种新型FEI850离子束修补机电子中和漏斗在审
| 申请号： | 202110266066.5 | 申请日： | 2021-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN112885689A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 华卫群;尤春;薛文卿;顾梦星;张月圆;刘维维;季书凤 | 申请（专利权）人： | 无锡中微掩模电子有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/32 |
| 代理公司： | 连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙) 32330 | 代理人： | 刘刚 |
| 地址： | 214000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 新型 fei850 离子束 修补 机电 中和 漏斗 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型FEI850离子束修补机电子中和漏斗，包括电子中和漏斗本体(2)，其特征在于：所述电子中和漏斗本体(2)的一侧安装有支撑连杆(1)，所述支撑连杆(1)的顶部安装有工艺气体管道(3)，所述工艺气体管道(3)的端部安装有工艺气体喷嘴(4)，所述电子中和漏斗本体(2)的中间位置处开设有中心孔(5)，所述电子中和漏斗本体(2)的内部设置有内侧面(6)和最低面(7)。
2.根据权利要求1所述的一种新型FEI850离子束修补机电子中和漏斗，其特征在于：所述电子中和漏斗本体(2)的材质设置为石墨材质。
3.根据权利要求1所述的一种新型FEI850离子束修补机电子中和漏斗，其特征在于：所述电子中和漏斗本体(2)的中心孔(5)位置高于电子中和漏斗本体(2)内部内侧面(6)的最低面(7)。
4.根据权利要求1所述的一种新型FEI850离子束修补机电子中和漏斗，其特征在于：所述电子中和漏斗本体(2)的内侧面设置为锯齿状。
5.根据权利要求1所述的一种新型FEI850离子束修补机电子中和漏斗，其特征在于：所述工艺气体喷嘴(4)设置在电子中和漏斗本体(2)的中心孔(5)位置。
6.根据权利要求1所述的一种新型FEI850离子束修补机电子中和漏斗，其特征在于：所述中心孔(5)设置在电子中和漏斗本体(2)内部的最低面(7)位置处。
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