[发明专利]测量薄膜光学常数的方法、系统、计算设备和存储介质有效
| 申请号： | 202110225675.6 | 申请日： | 2021-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN112964651B | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 范灵杰;陈昂;石磊;李同宇;殷海玮 | 申请（专利权）人： | 上海复享光学股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/25 | 分类号： | G01N21/25;G01N21/45;G01N21/47;G01N21/59;G06F17/15 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 黄倩 |
| 地址： | 200433 上海市杨浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种用于测量薄膜光学常数的方法、系统、计算设备和存储介质，该方法包括：获取关于待测对象的第一光谱数据，第一光谱数据至少指示待测对象在入射光的多个波长下、对应于多个测量角度的反射率；基于第一光谱数据，提取预定波长下的第一光谱数据，预定波长下的第一光谱数据指示待测对象在预定波长下、对应于多个测量角度的反射率；确定预定波长下的第一光谱数据中的最大反射率和最小反射率、第一测量角度和第二测量角度；以及基于最大反射率、最小反射率、第一测量角度和第二测量角度，确定待测薄膜在预定波长下的折射率。本公开能够实现无需提前假设薄膜光学常数满足的模型，以及准确测量薄膜的光学常数。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 薄膜 光学 常数 方法 系统 计算 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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