[发明专利]测量薄膜光学常数的方法、系统、计算设备和存储介质

说明书

本公开涉及一种用于测量薄膜光学常数的方法、系统、计算设备和存储介质，该方法包括：获取关于待测对象的第一光谱数据，第一光谱数据至少指示待测对象在入射光的多个波长下、对应于多个测量角度的反射率；基于第一光谱数据，提取预定波长下的第一光谱数据，预定波长下的第一光谱数据指示待测对象在预定波长下、对应于多个测量角度的反射率；确定预定波长下的第一光谱数据中的最大反射率和最小反射率、第一测量角度和第二测量角度；以及基于最大反射率、最小反射率、第一测量角度和第二测量角度，确定待测薄膜在预定波长下的折射率。本公开能够实现无需提前假设薄膜光学常数满足的模型，以及准确测量薄膜的光学常数。

技术领域

本公开的各实施例涉及量测领域，更具体地涉及用于测量薄膜的光学常数的方法、系统、计算设备和计算机可读存储介质。

背景技术

传统的用于测量薄膜光学常数的方案中，通常采用光谱法或椭偏仪的方法进行薄膜光学常数的测量。例如，通过对所获得的光谱数据以及两个椭偏参数的拟合得到薄膜的光学常数。上述传统的用于测量薄膜光学常数方案需要预先假设薄膜的光学常数所满足的既定模型，例如：柯西模型、洛伦兹模型等。然而，在实际测量过程中，真实的待测薄膜通常与所假设的既定模型存在一定的差异，因此使得关于薄膜的光学常数的测量结果与实际值相差较大。

综上，传统的用于测量薄膜光学常数的方案存在的不足之处在于：需要提前假设薄膜光学常数所满足的模型，并且在待测薄膜与所假设的模型存在差异时会导致薄膜的光学常数测量结果与实际值偏差较大。

发明内容

本公开提出了一种用于测量薄膜的光学常数的方法、系统、计算设备和非暂态机器可读存储介质，能够实现无需提前假设薄膜光学常数满足的模型，并且能够准确测量薄膜的光学常数。

根据本公开的第一方面，其提供了一种用于测量薄膜的光学常数的方法。该方法包括：获取关于待测对象的第一光谱数据，第一光谱数据至少指示待测对象在入射光的多个波长下、对应于多个测量角度的反射率，待测对象包括配置在衬底的表面的待测薄膜；基于第一光谱数据，提取预定波长下的第一光谱数据，预定波长下的第一光谱数据指示待测对象在预定波长下、对应于多个测量角度的反射率，预定波长为多个波长的至少部分数量波长中的每一个波长；确定预定波长下的第一光谱数据中的最大反射率和最小反射率、最大反射率所对应的第一测量角度和最小反射率所对应的第二测量角度；以及基于最大反射率、最小反射率、第一测量角度和第二测量角度，确定待测薄膜在预定波长下的折射率。

根据本公开的第二方面，其提供了一种用于测量薄膜的光学常数的方法。该方法包括：获取关于待测对象的第二光谱数据，第二光谱数据至少指示待测对象在入射光的多个波长下、对应于多个测量角度的透射率，待测对象包括配置在衬底的表面的待测薄膜，衬底为透明衬底或半透明衬底；基于第二光谱数据，提取预定波长下的第二光谱数据，预定波长下的第二光谱数据指示待测对象在预定波长下、对应于多个测量角度的透射率，预定波长为多个波长的至少部分数量波长中的每一个波长；确定预定波长下的第二光谱数据中的最大透射率和最小透射率，以及最大透射率所对应的第三测量角度和最小透射率所对应的第四测量角度；以及基于最大透射率、最小透射率、第三测量角度的和第四测量角度，确定待测薄膜在预定波长下的折射率。

根据本发明的第三方面，还提供了一种计算设备，该设备包括：至少一个处理单元；至少一个存储器，至少一个存储器被耦合到至少一个处理单元并且存储用于由至少一个处理单元执行的指令，指令当由至少一个处理单元执行时，使得计算设备执行本公开的第一方面或者第二方面中的方法。

根据本发明的第四方面，还提供了一种非暂态机器可读存储介质，其上存储有机器可读程序指令，机器可读程序指令被配置为使得机器执行根据本公开的第一方面或者第二方面中的方法。