[发明专利]等离子体处理系统、搬送方法以及处理系统在审
| 申请号： | 202110190351.3 | 申请日： | 2017-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN112786429A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 石泽繁 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理系统、搬送方法以及处理系统。等离子体处理系统具备：工艺模块；传递模块，其与所述工艺模块连接；搬送装置，其设置于所述传递模块的内部，用于从所述传递模块向所述工艺模块搬送基板和聚焦环；以及位置检测传感器，其在通过所述搬送装置搬送的所述基板和所述聚焦环的搬送路径上设置于能够检测所述基板的外周缘部和所述聚焦环的内周缘部的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 系统 方法 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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