[发明专利]等离子体处理系统、搬送方法以及处理系统

权利要求书

1.一种等离子体处理系统，具备：

工艺模块；

传递模块，其与所述工艺模块连接；

搬送装置，其设置于所述传递模块的内部，用于从所述传递模块向所述工艺模块搬送基板和聚焦环；以及

位置检测传感器，其在通过所述搬送装置搬送的所述基板和所述聚焦环的搬送路径上设置于能够检测所述基板的外周缘部和所述聚焦环的内周缘部的位置。

2.一种等离子体处理系统，具备：

工艺模块；

传递模块，其与所述工艺模块连接；

加载互锁真空模块，其与所述传递模块连接；

搬送模块，其与所述加载互锁真空模块连接；

搬送装置，其设置于所述传递模块的内部，用于在所述工艺模块和所述加载互锁真空模块之间搬送基板和聚焦环；以及

位置检测传感器，其在通过所述搬送装置从所述传递模块向所述工艺模块搬送的所述基板和所述聚焦环的搬送路径上设置于能够检测所述基板的外周缘部和所述聚焦环的内周缘部的位置。

3.根据权利要求1或2所述的等离子体处理系统，其特征在于，

所述位置检测传感器具有投光部和受光部，

所述投光部朝向所述受光部照射光，

所述受光部检测有无接收到从所述投光部照射出的所述光。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的等离子体处理系统，其特征在于，

所述位置检测传感器在通过所述搬送装置搬送所述聚焦环的搬送过程中检测所述聚焦环的位置。

5.根据权利要求3所述的等离子体处理系统，其特征在于，

所述投光部和所述受光部分别设置于所述传递模块。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的等离子体处理系统，其特征在于，

还具备控制部，

所述控制部构成为基于由所述位置检测传感器检测出的所述聚焦环的位置和预先决定的基准位置来计算所述聚焦环相对于基准位置的偏移量。

7.根据权利要求6所述的等离子体处理系统，其特征在于，

所述控制部构成为控制所述搬送装置，以校正所计算出的所述偏移量的方式将所述聚焦环搬送至所述工艺模块。

8.根据权利要求1至7中的任一项所述的等离子体处理系统，其特征在于，

还具备控制部，

所述控制部基于所述聚焦环从检测到所述聚焦环的内周缘部的第一位置移动至再次检测到所述聚焦环的内周缘部的第二位置的时间来计算所述聚焦环的位置。

9.一种搬送方法，在等离子体处理系统中搬送基板和聚焦环，所述等离子体处理系统具备工艺模块、与所述工艺模块连接的传递模块、以及设置于所述传递模块的内部的用于从所述传递模块向所述工艺模块搬送基板和聚焦环的搬送装置，所述搬送方法包括以下步骤：

通过所述搬送装置从所述传递模块向所述工艺模块搬送基板；以及

通过所述搬送装置从所述传递模块向所述工艺模块搬送聚焦环，

其中，在搬送所述基板的步骤中，通过位置检测传感器来检测所述基板的外周缘部的位置，

在搬送所述聚焦环的步骤中，通过所述位置检测传感器来检测所述聚焦环的内周缘部的位置。

10.一种搬送方法，在等离子体处理系统中搬送基板和聚焦环，所述等离子体处理系统具备工艺模块、与所述工艺模块连接的传递模块、与所述传递模块连接的加载互锁真空模块、与所述加载互锁真空模块连接的搬送模块、以及设置于所述传递模块的内部的用于在所述工艺模块和所述加载互锁真空模块之间搬送基板和聚焦环的搬送装置，所述搬送方法包括以下步骤：

通过所述搬送装置从所述传递模块向所述工艺模块搬送基板；以及

通过所述搬送装置从所述传递模块向所述工艺模块搬送聚焦环，

其中，在搬送所述基板的步骤中，通过位置检测传感器来检测所述基板的外周缘部的位置，

在搬送所述聚焦环的步骤中，通过所述位置检测传感器来检测所述聚焦环的内周缘部的位置。