[发明专利]等离子体处理系统、搬送方法以及处理系统

说明书

本发明提供一种等离子体处理系统、搬送方法以及处理系统。等离子体处理系统具备：工艺模块；传递模块，其与所述工艺模块连接；搬送装置，其设置于所述传递模块的内部，用于从所述传递模块向所述工艺模块搬送基板和聚焦环；以及位置检测传感器，其在通过所述搬送装置搬送的所述基板和所述聚焦环的搬送路径上设置于能够检测所述基板的外周缘部和所述聚焦环的内周缘部的位置。

本申请是申请日为2017年07月13日、申请号为201710572034.1、发明名称为“聚焦环更换方法”的中国发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种等离子体处理系统、搬送方法以及处理系统。

背景技术

已知一种将基板载置于在处理室的内部设置的载置台来进行等离子体处理的等离子体处理装置。在这种等离子体处理装置中，存在由于反复进行等离子体处理而逐渐消耗这样的消耗部件(例如参照专利文献1)。

作为消耗部件，例如列举设置于载置台的上表面的基板的周围的聚焦环。聚焦环暴露于等离子体而被削减，因此需要定期进行更换。

因此，在以往定期将处理室向大气开放，操作者手动进行聚焦环的更换。

专利文献1：日本特开2006-253541号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，在将处理室向大气开放的方法中，聚焦环的更换需要较长时间，在进行聚焦环的更换的期间，无法在处理室内对基板进行处理，因此生产率下降。

因此，在本发明的一个方式中，其目的在于提供一种能够使生产率提高的聚焦环更换方法。

用于解决问题的方案

为了达成上述目的，本发明提供一种等离子体处理系统，具备：工艺模块；传递模块，其与所述工艺模块连接；搬送装置，其设置于所述传递模块的内部，用于从所述传递模块向所述工艺模块搬送基板和聚焦环；以及位置检测传感器，其在通过所述搬送装置搬送的所述基板和所述聚焦环的搬送路径上设置于能够检测所述基板的外周缘部和所述聚焦环的内周缘部的位置。

本发明提供一种等离子体处理系统，具备：工艺模块；传递模块，其与所述工艺模块连接；加载互锁真空模块，其与所述传递模块连接；搬送模块，其与所述加载互锁真空模块连接；搬送装置，其设置于所述传递模块的内部，用于在所述工艺模块和所述加载互锁真空模块之间搬送基板和聚焦环；以及位置检测传感器，其在通过所述搬送装置从所述传递模块向所述工艺模块搬送的所述基板和所述聚焦环的搬送路径上设置于能够检测所述基板的外周缘部和所述聚焦环的内周缘部的位置。

本发明提供一种搬送方法，在等离子体处理系统中搬送基板和聚焦环，所述等离子体处理系统具备工艺模块、与所述工艺模块连接的传递模块、以及设置于所述传递模块的内部的用于从所述传递模块向所述工艺模块搬送基板和聚焦环的搬送装置，所述搬送方法包括以下步骤：通过所述搬送装置从所述传递模块向所述工艺模块搬送基板；以及通过所述搬送装置从所述传递模块向所述工艺模块搬送聚焦环，其中，在搬送所述基板的步骤中，通过位置检测传感器来检测所述基板的外周缘部的位置，在搬送所述聚焦环的步骤中，通过所述位置检测传感器来检测所述聚焦环的内周缘部的位置。