[发明专利]多带电粒子束描绘装置及多带电粒子束描绘方法在审
| 申请号： | 202110185082.1 | 申请日： | 2021-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN113341655A | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 松本裕史 | 申请（专利权）人： | 纽富来科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 牛玉婷 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明关于多带电粒子束描绘装置及多带电粒子束描绘方法。本发明的一形态的多带电粒子束描绘装置具备：可移动的台，供基板配置；发射数据生成部，生成多带电粒子束的各发射的发射数据；移位量计算部，至少基于与第k+1次(k是自然数)以后所照射的多带电粒子束的发射有关的参数，计算用于将第k次的发射的多带电粒子束整体一起进行位置修正的移位量；以及描绘机构，具有将多带电粒子束偏转的偏转器，上述描绘机构一边根据该移位量将第k次的发射的多带电粒子束整体通过一起偏转而移位，一边使用多带电粒子束对基板进行上述第k次的发射。 | ||
| 搜索关键词： | 带电 粒子束 描绘 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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