[发明专利]多带电粒子束描绘装置及多带电粒子束描绘方法

权利要求书

1.一种多带电粒子束描绘装置，其中具备：

可移动的台，供基板配置；

发射数据生成部，生成多带电粒子束的各发射的发射数据；

移位量计算部，至少基于与第k+1次以后所照射的上述多带电粒子束的发射有关的参数，计算用于将第k次的发射的多带电粒子束整体一起进行位置修正的移位量，其中k是自然数；以及

描绘机构，具有将上述多带电粒子束偏转的偏转器，上述描绘机构一边根据上述移位量将上述第k次的发射的多带电粒子束整体通过一起偏转而移位，一边使用上述多带电粒子束对基板进行上述第k次的发射。

2.如权利要求1所述的多带电粒子束描绘装置，其中，

上述移位量计算部还基于与第k－1次以前所照射的上述多束的发射有关的参数，计算上述移位量；

上述描绘机构一边根据上述移位量将上述第k次的发射的多带电粒子束整体通过一起偏转而移位，一边使用上述多带电粒子束对基板进行上述第k次的发射。

3.如权利要求1所述的多带电粒子束描绘装置，其中，

上述移位量计算部还基于与上述第k次所照射的上述多带电粒子束的发射有关的参数，计算上述移位量；

上述描绘机构一边根据上述移位量将上述第k次的发射的多带电粒子束整体通过一起偏转而移位，一边使用上述多带电粒子束对基板进行上述第k次的发射。

4.如权利要求2所述的多带电粒子束描绘装置，其中，

上述移位量计算部还基于与上述第k次所照射的上述多带电粒子束的发射有关的参数，计算上述移位量；

上述描绘机构一边根据上述移位量将上述第k次的发射的多带电粒子束整体通过一起偏转而移位，一边使用上述多带电粒子束对基板进行上述第k次的发射。

5.如权利要求1所述的多带电粒子束描绘装置，其中，

作为上述参数，使用在第k+1次以后的发射中使用的多带电粒子束的发射周期和接通束量的组合。

6.一种多带电粒子束描绘装置，其中具备：

可移动的台，供基板配置；

发射数据生成部，生成多带电粒子束的各发射的发射数据；

移位量计算部，至少基于与第k－1次以前所照射的上述多带电粒子束的发射有关的参数，计算用于将第k次的发射的多带电粒子束整体一起进行位置修正的移位量，其中k是自然数；以及

描绘机构，具有将上述多带电粒子束偏转的偏转器，上述描绘机构一边根据上述移位量将上述第k次的发射的多带电粒子束整体通过一起偏转而移位，一边使用上述多带电粒子束对基板进行上述第k次的发射。

7.如权利要求6所述的多带电粒子束描绘装置，其中，

上述移位量计算部还基于与上述第k次所照射的上述多带电粒子束的发射有关的参数，计算上述移位量；

上述描绘机构一边根据上述移位量将上述第k次的发射的多带电粒子束整体通过一起偏转而移位，一边使用上述多带电粒子束对基板进行上述第k次的发射。

8.如权利要求6所述的多带电粒子束描绘装置，其中，

作为上述参数，使用在第k－1次以前的发射中使用的上述多带电粒子束的照射位置的图案密度或照射量密度。

9.一种多带电粒子束描绘方法，其中，

生成多带电粒子束的各发射的发射数据；

至少基于与第k+1次以后的发射有关的参数，计算将第k次的发射的多带电粒子束整体一起进行位置修正的移位量，其中k是自然数；

一边根据上述移位量将上述第k次的发射的多带电粒子束整体通过一起偏转而移位，一边使用上述多带电粒子束对可移动的台上所配置的基板进行上述第k次的发射。