[发明专利]一种用掩模板技术制备硅基OLED微型显示器阳极的方法在审

专利信息
申请号: 202110131114.X 申请日: 2021-01-30
公开(公告)号: CN112670433A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 颜艳霜;吴康敬;孙扬;李德权;杨震元 申请(专利权)人: 浙江宏禧科技有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 金丽英
地址: 322000 浙江省金华市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开一种用掩模板技术制备硅基OLED微型显示器阳极的方法,采用NDL技术在12英寸的石英玻璃晶圆上打孔,通孔尺寸为3微米×9微米,厚度40‑50微米,将通孔玻璃晶圆黏附到12英寸的硅晶圆上作为掩模,磁控溅射金属后获得精确图形的阳极像素点。该技术使用通孔的透明玻璃掩模板代替传统的光刻掩模板制备阳极像素点,有助于掩模板与硅片晶圆的对准且玻璃的刻蚀可控性较好,同时在阳极的制备过程中规避了液体环境的引入,避免阳极金属表面腐蚀影响金属功函数和空穴注入能力,增加阳极金属的选择性。
搜索关键词: 一种 模板 技术 制备 oled 微型 显示器 阳极 方法
【主权项】:
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