[发明专利]一种提升子像素发光均衡的Micro-LED制造方法有效

专利信息
申请号: 202110115072.0 申请日: 2021-01-27
公开(公告)号: CN112951103B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 张永爱;缪志辉;周雄图;吴朝兴;郭太良;林坚普;林志贤 申请(专利权)人: 福州大学;闽都创新实验室
主分类号: G09F9/33 分类号: G09F9/33;G03F7/20;H01L27/15
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 丘鸿超;蔡学俊
地址: 362251 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及一种提升子像素发光均衡的Micro‑LED制造方法,该方法包括:在阵列基板的受光面涂覆光刻胶;调整掩膜版,使掩膜版的透光区对应至每个显示像素;维持掩膜版与阵列基板相对位置不变,采用入射方向不同的三组光源同时透过掩膜版的透光区对不同组别的子像素进行曝光;其中,每组光源对应一组相同颜色的子像素,每组光源的光照强度和光照时间根据与该组光源对应颜色的子像素需填充的量子点胶体体积决定;使用显影液对阵列基板上的光刻胶进行第一时间的溶解;烘干阵列基板,并对子像素进行刻蚀形成三种深度不同的储液槽。该方法有利于提高子像素的发光亮度均衡,提升显示效果。
搜索关键词: 一种 提升 像素 发光 均衡 micro led 制造 方法
【主权项】:
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