[发明专利]用于浸没式光刻胶的含氟化合物及其制备方法、光刻胶有效

专利信息
申请号: 202110110177.7 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN112898185B 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 马潇;周浩杰;杨平原;夏正建;李庆伟;杨鑫楷;岳力挽;顾大公;毛智彪;许从应 申请(专利权)人: 宁波南大光电材料有限公司
主分类号: C07C273/18 分类号: C07C273/18;C07C275/52;G03F7/004
代理公司: 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 代理人: 贾振勇
地址: 315800 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种用于浸没式光刻胶的含氟化合物及其制备方法,该方法包括:在反应容器中加入预备化合物、4‑二甲氨基吡啶、l‑乙基‑(3‑二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐以及三氯甲烷,混合均匀形成反应体系;向反应体系中滴加N,N‑二甲基丙二胺,反应生成含氟化合物;其中,预备化合物的化学结构为n≧1,为整数。本发明还提供一种添加含氟化合物的浸没式光刻胶。采用本技术方案提供的制备工艺制作出的含氟化合物,添加至光刻胶中能够防止纯水中的杂质污染光刻机镜头,有效降低杂质对镜头的污染。采用本发明提供的技术方案替代现有的加疏水层的配方,具有工艺简单、生产周期短、生产效率得到提高、节约生产成本等优点。
搜索关键词: 用于 浸没 光刻 氟化 及其 制备 方法
【主权项】:
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