[发明专利]药液处理装置在审
| 申请号： | 202080093066.3 | 申请日： | 2020-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN114981922A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 出口泰纪 | 申请（专利权）人： | 东邦化成株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/027 | 分类号： | H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本奈良县*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种抑制在每个基板的抗蚀剂去除中产生不均的药液处理装置。所述药液处理装置具备：处理槽(10a)，通过将基板(4)浸渍于药液(6)来对所述基板进行抗蚀剂去除处理；多个保持部(22)，以纵置的方式保持所述基板(4)；上下驱动部(20)，单独地上下驱动所述保持部(22)；以及装夹部(55)，卡脱自如地装夹所述基板(4)，所述上下驱动部(20)使所述保持部(22)在将所述基板(4)浸渍于所述药液(6)的浸渍位置与将所述基板(4)从所述药液(6)提起的非浸渍位置之间单独地上下移动，由此由所述保持部(22)保持的所述基板(4)被以单片式进行抗蚀剂去除处理。 | ||
| 搜索关键词： | 药液 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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