[发明专利]使用反馈和前馈控制的纳米压印光刻中的对准控制在审
| 申请号： | 202080078826.3 | 申请日： | 2020-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN114667485A | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 娄明吉;崔炳镇;J·D·克莱因;吉田贵裕;S·T·詹金斯 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;B32B37/00;B81C1/00;B32B37/14;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了用于控制其上支撑有基板的可移动的台架的位置的系统和方法。从传感器获得表示相对于物体上的标记的基板的位置的第一位置信息。基于所获得的第一位置来生成对准预测信息，其中，所生成的对准预测信息包括至少一个参数值。基于所获得的第一位置信息和所生成的对准预测信息来生成包括该至少一个参数值的第一轨迹信息。基于所生成的对准预测信息、第一轨迹信息和第二位置信息来生成第二轨迹信息，其中，第二位置信息表示可移动的台架的位置。基于第二轨迹信息来生成输出控制信号，并且使用输出控制信号基于所生成的输出信号来控制可移动的台架接近目标位置。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 反馈 控制 纳米 压印 光刻 中的 对准 | ||
【主权项】：
暂无信息
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