[发明专利]使用反馈和前馈控制的纳米压印光刻中的对准控制

说明书

提供了用于控制其上支撑有基板的可移动的台架的位置的系统和方法。从传感器获得表示相对于物体上的标记的基板的位置的第一位置信息。基于所获得的第一位置来生成对准预测信息，其中，所生成的对准预测信息包括至少一个参数值。基于所获得的第一位置信息和所生成的对准预测信息来生成包括该至少一个参数值的第一轨迹信息。基于所生成的对准预测信息、第一轨迹信息和第二位置信息来生成第二轨迹信息，其中，第二位置信息表示可移动的台架的位置。基于第二轨迹信息来生成输出控制信号，并且使用输出控制信号基于所生成的输出信号来控制可移动的台架接近目标位置。

技术领域

本公开涉及纳米压印光刻中的对准控制，更具体地，涉及实时反馈和前馈控制。

背景技术

在纳米压印光刻中，逐区对准的技术已被用于实现纳米级的覆盖精度。在一些示例中，可以通过将模板相对于基板(例如，晶片)移动来校正压印模板与基板上的对应的区之间的初始对准误差。然而，对于纳米压印光刻，快速且一致的对准是一个挑战。更具体地，初始状态的变化和稀液体摩擦是两个主要难点。当前的对准方案通常利用可以经由调整旋钮来手动调整的单个控制算法。除了与手动调整诸如延迟时间之类的控制算法以实现对控制算法的修改相关联的常规缺点之外，当前方案的变化和非线性不足以处理不同的RLT(模板与基板之间的可固化液体的残余层厚度)、位置和过渡处理。这导致了各种问题，包括对准汇聚(converge)慢、对准超调(overshoot)、对准欠调(undershoot)、失调(stalling)、振荡和重复性问题。这些问题持续影响批量生产的良率和效率，因此期望这些问题被校正。

发明内容

根据本公开，提供了一种控制其上支撑有基板的可移动的台架的位置的方法。从传感器获得表示相对于物体上的标记的基板的位置的第一位置信息。基于所获得的第一位置来生成对准预测信息，其中，所生成的对准预测信息包括至少一个参数值。基于所获得的第一位置信息和所生成的对准预测信息来生成第一轨迹信息，并且第一轨迹信息包括该至少一个参数值。基于所生成的对准预测信息、第一轨迹信息和第二位置信息来生成第二轨迹信息，其中，第二位置信息表示可移动的台架的位置。基于第二轨迹信息来生成输出控制信号，并且使用输出控制信号基于所生成的输出信号来控制可移动的台架接近目标位置。

在根据本公开的其他实施例中，确定基于传感器表示根据第二轨迹信息移动的相对于物体上的标记的基板的位置的误差值，并基于误差值在预定范围内来生成更新的输出控制信号，并且基于更新的输出控制信号来控制可移动的台架接近目标位置。

在根据本公开的其他实施例中，基于在可移动的台架根据输出控制信号移动之后由图像捕获设备获得的更新的第一位置信息来更新对准预测信息和包括在对准预测信息中的至少一个参数值。

根据本公开，对准预测信息是第一前馈信号，并且所生成的第一轨迹信息是通过获得所获得的第一位置信息与前馈对准预测信息之间的差值而生成的第一反馈信号，并且所生成的第二轨迹信息是第二反馈信号。

本发明提供了提供以下的其他实施例：响应于确定基于传感器表示在对准预测信息的结束位置处相对于物体上的标记的基板的位置的误差值在预定范围外，生成包括基于更新的第一位置信息而确定的更新的至少一个参数值的新的对准预测信息，并将新的对准预测信息与第二轨迹信息组合，以生成更新的输出控制信号，使得基于更新的输出控制信号来控制可移动的台架。如此，输出控制信号还基于第三前馈控制信号与第二轨迹信息的组合。

本文中描述的总体方面和实现方式的优点包括基于实时系统识别的对准误差的前馈和反馈控制，导致快速和精确地校正压印光刻中的对准误差。具有将基板移动平滑转换到对准条件的快速且精确的校正导致改善的对准生产率和覆盖精度。

在附图和以下描述中阐述了本说明书中描述的主题的一个或多个实现方式的细节。根据说明书、附图和权利要求书，主题的其它潜在特征、方面和优点将变得清楚。

附图说明

图1描绘了纳米压印光刻系统的侧视图。