[发明专利]真空处理设备、真空系统、气体分压控制组件和控制真空处理腔室中气体分压的方法在审
| 申请号： | 202080076762.3 | 申请日： | 2020-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN114630922A | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 陈春诚;张鸿文;林信宏;杨启昌;克里斯托夫·蒙多夫;托马斯·格比利;于尔根·格里尔迈尔 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种用于在基板上沉积材料的真空处理设备(110)。真空处理设备(110)包括：真空腔室，真空腔室包括处理区域(111)；在真空腔室的处理区域(111)内的沉积设备(112)；在真空腔室内部的冷却表面(113)；和在冷却表面(113)与处理区域(111)之间的一个或多个可移动的遮挡件(220)。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 设备 系统 气体 控制 组件 腔室中 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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