[发明专利]真空处理设备、真空系统、气体分压控制组件和控制真空处理腔室中气体分压的方法

权利要求书

1.一种真空处理设备，包括：

真空腔室，包括处理区域；

沉积设备，位于所述真空腔室的所述处理区域内；

冷却表面，位于所述真空腔室内部；和

一个或多个可移动的遮挡件，位于所述冷却表面与所述处理区域之间。

2.如权利要求1所述的真空处理设备，其中所述真空腔室具有开口，所述真空处理设备进一步包括：

密封件，构造为密封所述开口，所述冷却表面耦接至所述密封件，所述密封件包括：

用于所述沉积设备的固持件。

3.一种真空处理设备，包括：

真空腔室，具有开口；

密封件，构造为密封所述开口，所述密封件包括：

用于沉积设备的固持件；和

冷却表面，耦接至所述密封件。

4.如权利要求3所述的真空处理设备，其中所述真空腔室包括处理区域，所述沉积设备在所述真空腔室的所述处理区域内，且所述冷却表面在所述真空腔室内部，所述真空处理腔室进一步包括：

一个或多个可移动的遮挡件，位于所述冷却表面与所述处理区域之间。

5.如权利要求1至4中任一项所述的真空处理设备，进一步包括：

至少部分地围绕所述冷却表面的一个或多个固定遮挡件。

6.如权利要求5所述的真空处理设备，其中当所述一个或多个可移动的遮挡件处于关闭位置时，所述一个或多个固定遮挡件和所述一个或多个可移动的遮挡件提供用于所述冷却表面的封围。

7.如权利要求5所述的真空处理设备，其中当所述一个或多个可移动的遮挡件处于打开位置时，所述一个或多个固定遮挡件和所述一个或多个可移动的遮挡件在所述冷却表面与所述沉积区域之间提供流体路径。

8.如权利要求7所述的真空处理设备，其中所述流体路径可通过在所述打开位置中调节所述一个或多个可移动的遮挡件的角度或位置来调节。

9.如权利要求1至8中任一项所述的真空处理设备，其中所述冷却表面是多个管线的所述表面。

10.如权利要求1至9中任一项所述的真空处理设备，其中所述冷却表面是低温冷却设备的低温表面。

11.权利要求1至10中任一项所述的真空处理设备，进一步包括：

至少一个与所述真空腔室流体连通的真空泵，其中所述真空泵选自由涡轮分子泵、油扩散泵、离子吸气剂泵和涡旋泵所组成的群组。

12.一种真空处理系统，包括：

权利要求1至11中任一项所述的真空处理设备；和

至少一个传送腔室。

13.如权利要求12所述的真空处理系统，进一步包括：

基板支撑件，用于将基板通过所述至少一个传送腔室传送到所述真空处理设备。

14.一种用于真空处理腔室的气体分压控制组件，包括：

冷却表面，用于凝结所述气体；

可移动的遮挡件，构造为调节从所述真空处理腔室到所述冷却表面的所述流体路径。

15.如权利要求14所述的气体分压控制组件，其中所述可移动的遮挡件是旋转式活动遮挡件。

16.如权利要求15所述的气体分压控制组件，进一步包括：

电动机；和

遮挡件表面、齿轮箱、带、固持件和支撑板中的至少一个。

17.如权利要求15所述的气体分压控制组件，其中所述可移动的遮挡件通过电动机的方式绕轴旋转。