[发明专利]光学膜、溅射靶以及光学膜的成膜方法在审
| 申请号： | 202080056223.3 | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN114207180A | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 大上秀晴 | 申请（专利权）人： | 住友金属矿山株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54;C23C14/08;G02B1/10 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 陈曦;向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供要求简便的成膜条件的光学膜(含有铯、钨以及氧的复合钨氧化物膜)、溅射靶以及光学膜的成膜方法。本发明的光学膜在可见光波长区域具有透过性，在近红外波长区域具有吸收性，而且具有电波透过性，所述光学膜含有铯、钨以及氧，按每50nm划分300nm～1700nm的波长区域而确定的各波长[300nm、350nm、400nm、450nm、……1700nm]的折射率n和消光系数k分别设定为特定的数值范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 溅射 以及 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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